半导体产业周报:越南晶圆厂进度、多国设备与设计动态

越南首家半导体晶圆厂或无法实现2027年试产目标,该项目估值13亿美元,尚未开工,ASML光刻设备谈判未决;PSK拟投资1.25亿美元在龙仁建半导体设备厂;Imec与印第安纳大学合作研究先进电子与光子学;TetraMem流片12nm模拟存内计算SoC;Fraunhofer IIS在晶圆级将微磁体集成进传感器芯片衬底。

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